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 |  일반 GAS 공급 설계 POINT
-반도체 제조장치의 가동시간, 가동 Pattern, 장래의 설비계획을 고려한 정격 GAS 소비량 설계
-Onsite의 입지조건을 고려한 각종 Gas 의 공급방식 선정
-Point of Use의 요구순도 확보
-안정연속작업을 위한 Back up 보유량의 설정 및 공급
-Purge Loop 배관 설계-각 UNIT류의 최적설계 (FLOW, SYSTEM구성)
-주요 기기 선정 (신뢰성, 응답성, 재현성, 정밀도, etc)
-종합적 공급방식, 경제성 검토
-신기술 (향후 변화 예상되는 MATERIAL) |
 | 보안면의 확보
-특수GAS 공급 YARD 설치 (집중분리)
-특수 GAS 를 전부 CYLINDER CABINET에 넣는다.
-수소계 GAS (SiH4, B2H6… )와 산화계 GAS를 동일 CYLINDER CABINET내에 보관하지 않는다.
-CYLINDER CABINET 및 수납 SPACE의 상시 배기계 및 긴급배기계의 SYSTEM 설계
(상시 배기계를 가연, 산, ALKALI, 일반 등의 계통으로 분류)
-긴급대응 처리로서 CYLINDER 및 배관계의 긴급차단장치 SYSTEM 설계
-공급배관계는 확실히 누설되지 않는 배관설계 및 배관 시공 (CABINET 출구에서 장치입구까지 전체접속은 용접시공)
품질면의 확보
-특수 GAS 공급 MAKER의 순도 관리 요구
-특수 GAS 공급량의 확인 및 감시가 적절히 가능한 SYSTEM 설계, 단독 MISS 방지를 위한 특수 GAS공급,
CYLINDER의 색별, 공유표시 및 사용기간의 CYLINDER 관리 |
 | 확산 AsH3 , B2H6 , PH , BCl3 …
EPITAXIAL(성장) SiH4 , SiCl4 , SiH2Cl2 , SiHCl3 …
ETCHING BCl3 , CCl4 , Cl2 , CF4, CCl2F2 …
표면절연막(형성) (SiO2 용) SiH4 , SICL4 , SiH2Cl2
표면절연막(형성) (PSG 용) SiH4 , SICl4 , SiH2Cl …
(PSG 용) SiH4 , SICl4 , SiH2Cl …
(Si2N4 용) SiH4 , SiH2Cl2 , NH3 …
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